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全球熱議:中微公司擴充業(yè)務產(chǎn)品線,推出12英寸薄膜沉積設備Preforma Uniflex? CW


(資料圖)

近日,中微半導體設備(上海)股份有限公司(以下簡稱“中微公司”,上交所股票代碼:688012)推出自主研發(fā)的12英寸低壓化學氣相沉積(LPCVD)設備Preforma Uniflex? CW。這是中微公司深耕高端微觀加工設備多年、在半導體薄膜沉積領域取得的新突破,也是實現(xiàn)公司業(yè)務多元化增長的新動能。

圖片注釋:中微公司12英寸低壓化學氣相沉積產(chǎn)品Preforma Uniflex? CW

作為中微公司自主研發(fā)的產(chǎn)出效率高且性能卓越的12英寸LPCVD設備,Preforma Uniflex? CW可靈活配置多達五個雙反應臺反應腔(十個反應臺),每個反應腔可以同時加工兩片晶圓,在保證較低的生產(chǎn)成本和化學品消耗的同時,實現(xiàn)更高的生產(chǎn)效率。

Preforma Uniflex? CW, 作為中微公司自主研發(fā)的LPCVD設備,配備了完全擁有自主知識產(chǎn)權的優(yōu)化混氣方案及加熱臺, 具有優(yōu)秀的薄膜均一性、填充能力和工藝調節(jié)靈活性,對于彎曲度較大的晶圓,它也具備良好的工藝處理能力。并且其優(yōu)異的階梯覆蓋率和填充能力,可以滿足先進邏輯器件、DRAM和3D NAND中接觸孔以及金屬鎢線的填充應用需求。

探索不息,創(chuàng)新不止。中微公司推出的Preforma Uniflex? CW是公司創(chuàng)新之路的又一里程碑。一直以來,中微公司踐行“四個十大”的企業(yè)文化,將產(chǎn)品開發(fā)的十大原則始終貫穿于產(chǎn)品開發(fā)、設計和制造的全過程,研發(fā)團隊秉持為達到設備高性能和客戶嚴格要求而開發(fā)的理念,堅持技術創(chuàng)新、設備差異化和知識產(chǎn)權保護。“這款LPCVD設備不僅擁有完整、自主的知識產(chǎn)權,還創(chuàng)造了中微公司新設備研發(fā)速度的新紀錄。”中微公司集團副總裁、LPCVD?產(chǎn)品部和公共平臺工程部總經(jīng)理陶珩說:“自該款LPCVD設備研發(fā)立項以來,僅用不到半年時間,我們就完成了產(chǎn)品設計、生產(chǎn)樣機開發(fā)和實驗室評價,目前已順利導入客戶端進行生產(chǎn)線核準。”

如今,數(shù)碼產(chǎn)業(yè)已成為國民經(jīng)濟的兩大支柱之一,正在徹底改變人類的生產(chǎn)和生活方式。中微公司董事長兼總經(jīng)理尹志堯博士表示,“數(shù)碼強,則國強;數(shù)碼弱,則國弱。半導體微觀加工設備正是數(shù)碼產(chǎn)業(yè)的基石,是發(fā)展集成電路和數(shù)碼產(chǎn)業(yè)的關鍵。工欲善其事,必先利其器,加工微米及納米級微觀器件的設備對發(fā)展集成電路與微器件工業(yè)、促進數(shù)碼產(chǎn)業(yè)發(fā)展至關重要。此次我們推出LPCVD新產(chǎn)品,在等離子體刻蝕設備和MOCVD設備的基礎上,進一步拓展了公司的產(chǎn)品線布局,也增強了半導體設備的自主可控性。未來公司也將繼續(xù)瞄準世界科技前沿,堅持三維發(fā)展戰(zhàn)略,推出更多自主設計的半導體設備,為促進數(shù)碼產(chǎn)業(yè)發(fā)展貢獻力量。”

自2004年成立以來,中微公司致力于開發(fā)和提供具有國際競爭力的微觀加工的高端設備,現(xiàn)已發(fā)展成為國內高端微觀加工設備的領軍企業(yè)之一。未來,公司將繼續(xù)打造更多具有國際競爭力的技術創(chuàng)新與差異化產(chǎn)品,為客戶和市場提供性能優(yōu)越、生產(chǎn)效率高和性價比高的設備解決方案。

關于中微半導體設備(上海)股份有限公司

中微半導體設備(上海)股份有限公司(證券簡稱:中微公司,證券代碼:688012)致力于為全球集成電路和LED芯片制造商提供領先的加工設備和工藝技術解決方案。中微公司開發(fā)的等離子體刻蝕設備和化學薄膜設備是制造各種微觀器件的關鍵設備,可加工微米級和納米級的各種器件。這些微觀器件是現(xiàn)代數(shù)碼產(chǎn)業(yè)的基礎,它們正在改變人類的生產(chǎn)方式和生活方式。中微公司的等離子體刻蝕設備已被廣泛應用于國際一線客戶從65納米到5納米及更先進工藝的眾多刻蝕應用,中微公司開發(fā)的用于LED和功率器件外延片生產(chǎn)的MOCVD設備已在客戶生產(chǎn)線上投入量產(chǎn),目前已在全球氮化鎵基LED MOCVD設備市場占據(jù)領先地位。

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